- I. Giới thiệu
Máy quang phổ huỳnh quang tia X (XRF) là thiết bị phân tích thành phần hóa học của vật liệu dựa tín hiệu và cường độ huỳnh quang phát ra từ mẫu sau khi chiếu tia X vào nó.
Máy quang phổ huỳnh quang tia X chia thành 2 loại là loại tán xạ năng lượng EDX và tán xạ bước sóng WDX.
- II. So sánh 2 loại máy XRF:
So sánh | Loại tán xạ năng lượng (EDX) | Loại tán xạ bước sóng (WDX) |
Lĩnh vực sử dụng | Công nghiệp | Nghiên cứu |
Kích thước | Nhỏ | Lớn |
Đặc điểm | Nhỏ gọn và không quá đắt | Kích thước lớn và đắt |
Có thể phân tích nhiều nguyên tố tại cùng 1 thời điểm | Có khả năng phân tích ở độ chính xác rất cao | |
Chủ yếu phân tích ở áp suất thường | Chủ yếu phân tích ở áp suất chân không | |
Thời gian phân tích ngắn | Thời gian phân tích dài |
- III. Nguyên lý hoạt động của Máy quang phổ tán xạ năng lượng tia X (EDX)
Huỳnh quang tia X phát ra từ mẫu sẽ đi vào phần tử cảm biến bán dẫn tại cùng thời điểm. Sau đó, sự tính toán cho từng nguyên tố (từng mức năng lượng) được tiến hành thông qua xử lý tín hiệu điện và quang phổ huỳnh quang tia X thu được. Với máy quang phố EDX, nhiều nguyên tố có thể được phân tích cùng lúc.
Đặc điểm của máy quang phổ tán xạ bước sóng X (WDX)
Tia X phát ra từ mẫu sẽ đi qua khe hở vào buồng đơn sắc. Buồng đơn sắc và Detector liên kết với nhau trong khi duy trì góc liên kết θ, 2θ như hình bên dưới. Chỉ những huỳnh quang tia X có bước sóng thõa mãn mối tương quan này được đưa vào detector. Vì bước sóng của huỳnh quang tia X có thể chiết ra phụ thuộc vào θ. Phổ huỳnh quang tia X có thể đạt được bằng sự chuyển dịch liên tục θ.
- V. ứng dụng của máy quang phổ XRF trong ngành xi mạ
Dùng để phân tích hàm lượng kim loại trong dung dịch xi mạ từ đó có thể điều chỉnh khi cần thiết
